Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

Zirkonium Oksida ZrO₂ |Hafnium Oksida HfO₂ 99,9%

Katrangan

Zirkonium Oksida ZrO₂, utawa Zirconium Dioxide, praktis ora larut ing banyu, lan rada larut ing HCl lan HNO₃, titik lebur 2700°C, Kapadhetan 5,85g/cm³, yaiku kristal tanpa ambu kanthi titik leleh sing dhuwur, resistivitas dhuwur, indeks bias dhuwur lan sifat koefisien ekspansi termal sing kurang, yaiku bahan tahan suhu dhuwur sing penting, bahan insulasi keramik, tabir surya keramik lan bahan mentah kanggo permata buatan.ZrO₂iku barang umum kang kudu katahan ing kelangan, garing lan well-ventilated Panggonan, supaya wadhah tightly ditutup lan adoh saka alkali kuwat.Zirkonium Oksida ZrO₂umume digunakake kanggo nggawe senyawa zirkonium logam lan zirkonium, keramik frekuensi dhuwur, bahan abrasif, pigmen keramik, bahan refraktori lan kaca optik.

Pangiriman

Zirconium Oxide utawa Zirconium Dioxide ZrO₂kanthi kemurnian ZrO₂+HfO₂≥ 99,9% lan Hafnium Oksida HfO₂kanthi kemurnian HfO₂+ZrO₂≥99.9% ing Western Minmetals (SC) Corporation bisa dikirim ing ukuran bubuk 60-150mesh, 25kg ing tas plastik karo drum karton njaba, utawa minangka specification selaras.

Enquiry saiki

Rincian

Tag

Spesifikasi Teknis

ZrO₂& HfO₂

Zirconium Oxide utawa Zirconium Dioxide ZrO₂ kanthi kemurnian ZrO₂+HfO₂≥ 99,9% lan Hafnium Oksida HfO₂kanthi kemurnian HfO₂+ZrO₂≥99.9% ing Western Minmetals (SC) Corporation bisa dikirim ing ukuran bubuk 60-150mesh, 25kg ing tas plastik karo drum karton njaba, utawa minangka specification selaras.

barang	HfO₂	ZrO₂
Penampilan	Bubuk Putih	Bubuk Putih
Bobot Molekul	210.49	123.22
Kapadhetan	9,68 g/cm³	5,85 g/cm³
Titik Lebur	2758 °C	2700 °C
Nomer CAS	12055-23-1	1314-23-4

Ora.	Item			Spesifikasi Standar
1	Kemurnian			Kotoran (PCT Maks saben)	Ukuran
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99,9%	Si 0,01, Fe 0,001, Ti/Na 0,002, U/Th 0,005	60-150 mesh
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99,9%	Fe/Si 0,002, Mg/Pb/Mo 0,001, Ca/Al/Ni 0,003, Ti 0,007, Cr 0,005	100 bolong
4	Packing			25kgs ing tas plastik karo karton drum njaba

Hafnium Oksida HfO₂, utawa Hafnium Dioxide, senyawa saka hafnium, HfO₂+ZrO₂≥99,9%, titik lebur 2758°C, kapadhetan 9,68g/cm³, ora larut ing banyu, HCl lan HNO₃, nanging larut ing H₂SO₄lan HF.Hafnium Oksida HfO₂minangka bahan keramik kanthi celah pita lebar lan konstanta dielektrik sing dhuwur.Hafnium Oksida HfO₂paling kamungkinan kanggo ngganti silika insulator gapura saka logam oxide semikonduktor tabung efek lapangan kanggo ngatasi masalah watesan ukuran pangembangan struktur SiO₂ / Si tradisional ing MOSFET, supaya iku materi majeng digunakake ing lapangan microelectronic.Iki uga digunakake kanggo nggawe logam hafnium, senyawa hafnium, bahan refraktori, bahan lapisan anti-radioaktif, lan katalis.